Hệ thống nghiên cứu Plasma ICP kết hợp máy phân tích năng lượng và khối lượng ion EQP

[Reecotech]

Kết hợp phân tích năng lượng/khối lượng của tất cả thành phần trong các quá trình plasma RF:
+ Nghiên cứu kỹ thuật khắc ion hoạt động/plasma
+ CVD / PVD / MOCVD
+ Cải tạo bề mặt
+ Quá trình Plasma/Chân không
+ Khử trùng/làm sạch plasma
+ Cải tạo/chế tạo màng mỏng
+ Cải tạo/chế tạo composite
Hệ thống nghiên cứu plasma Hiden tích hợp máy phân tích plasma cùng lò phản ứng RF – ICP với các tính năng:
+ Tế bào thạch anh hình trụ đường kính 100mm
+ Cuộn cảm biến đồng 4 vòng cùng thiết bị giảm nhiệt cuộn dây và bộ điều chỉnh cuộn 100mm
+ Máy phát điện 13.56MHz RF, điện năng lên đến 200W với mạch phối hợp
+ Màn hình RF (440 x 340 x 340 mm)
+ Làm mát bằng không khí, kiểm soát dòng chảy Dual tự động hoặc theo hướng dẫn
+ Bơm phân tử Turbo kép đa dạng cho nhiều hoạt động khác nhau
+ Áp kế điện dung và màn hình hiển thị áp suất tế bào
+ Máy phân tích plasma Hiden EQP 500 với dịch chuyển Z 100 mm hoạt động theo phần mềm MASsoft OF
+ Máy phân tích năng lượng/khối lượng dành cho các ion âm, ion dương, phân tử trung hòa và gốc tự do.